2025“中国光谷”国际光电子博览会（简称武汉光博会/OVC EXPO）,将在2025年5月15-17日，在武汉·中国光谷科技会展中心举行，预计参展商近400家，专业观众超过30000人，会议及特色活动20多场。武汉光博会2002年举办至今，已经发展成为中国规格最高、最有影响力的光电信息专业展会之一，是高效链接研发、制造、下游应用和政府资源，精准采供对接，深耕中西部市场最佳展会平台。累计吸引全球40多个国家和地区的6000余家知名企业参展，近60万专业观众参观，同期举办200余场专业会议。

本次武汉光博会我们将携带桌面型光子芯片和FBG三维折射率表征设备闪亮登场！以及新品预告—3D光子芯片激光纳米制造表征一体机，欢迎广大用户到现场参观和交流！
光子芯片和FBG三维折射率表征设备，可以实现三维折射率成像，并帮助用户获取定量折射率差的空间分布，表征精度达到10-4量级。用户可以依据该测量结果，进行加工参数的工艺优化，从而实现全局最优的光子学器件加工。智能激光纳米加工及原位3D折射率表征系统，可以实现原位3D折射率表征，避免了传统表征所需要（取下样品-表征-重新安装寻找加工区域-优化加工参数-再表征）的耗时循环迭代的过程。用户可以在加工样品后，直接在线表征，定量设计、定量测量，快速优化迭代加工结果，为三维光子学芯片的加工提供了前所未有的便利，为激光纳米制造在光通信、光感知、光计算、光存储、生物医学、绿色能源等应用提供智能制造和测量能力的有力支撑。