
NL200系列工业级半导体泵浦调Q激光器

产品特点
▪ 最大单脉冲能量4mJ@1064nm
▪ 最大重复频率2500Hz
▪ 532nm/355nm/266nm/213nm输出可选
▪ 脉宽<10ns@1064nm
▪ 电光调Q
▪ 空气冷却
| 主要应用
▪ LCD和OLED面板修复
▪ 激光清洗
▪ OPO 泵浦
|
型号 | NL201 | NL202 | NL204 |
单脉冲能量 | |||
@1064nm | 0.9mJ | 2.0mJ | 4.0mJ |
@532nm | 0.3mJ | 0.9mJ | 2.0mJ |
@355nm | 0.2mJ | 0.6mJ | 1.3mJ |
@266nm | 0.08mJ | 0.2mJ | 0.6mJ |
@213nm | 0.04mJ | 0.1mJ | 0.2mJ |
重复频率 | 10-2500Hz | 10-1000Hz | 500-1000Hz |
脉冲能量稳定性 | |||
@1064nm | <0.5% | ||
@532nm | <2.5% | ||
@355nm | <3.5% | ||
@266nm | <4.0% | ||
@213nm | <5.0% | ||
脉宽 | 7-10ns | ||
功率稳定性 | ±2% | ||
M2 | <1.3 | ||
光斑尺寸 | 0.7mm | ||
发散角 | <3mrad | ||

产品特点
▪ 半导体激光器泵浦
▪ 最大190mJ@1064nm
▪ 重复频率最大100Hz
▪ 短脉宽2-4ns
▪ 用于低发散角的可变反射率输出耦合
▪ 超静运行
▪ 可用LabVIEW远程控制
▪ 二倍频和三倍频可选
| 主要应用
▪ LIBS
▪ 材料烧蚀
▪ OPO泵浦源
▪ 遥感
▪ 激光雷达
▪ 质谱分析
▪ LIF(光诱导荧光)
|
参数指标
参数 | 指标 | |
型号 | N231-50 | N231-100 |
单脉冲能量 | ||
@1064nm | >190mJ | >150mJ |
@532nm | >110mJ | >90mJ |
@355nm | >55mJ | >40mJ |
能量稳定性(StdDev) | ||
@1064nm | <1% | |
@532nm | <2.5% | |
@355nm | <3.5% | |
重复频率 | 50Hz | 100Hz |
脉宽 | 2-4ns | |
线宽 | <1cm-1@1064nm | |
光斑分布 | 近场平顶,远场高斯 | |
激光发散角 | <0.8 mrad | |
激光指向稳定性 | <60 urad | |
偏振度 | 线偏振,>95%@1064nm | |
光斑大小 | 5mm | |
| 购买人 | 会员级别 | 数量 | 属性 | 购买时间 |
|---|
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